终端光学组件是“神光”系列项目中靶场光电控制系统的关键重要组件之一,其研制具有复杂性高、精密度高、研制周期长、未知性强等区别于一般工程项目的特点,研制过程中存在众多潜在的、可能会造成重大影响的风险因素。因此,为了提高终端光学组件研制的成功率,必须对项目中的风险因素进行识别、分析和控制,开展项目风险管理工作。本文在研究国内外学者对于研制类项目风险管理的论述的基础上,总结分析了各类风险分析与管理方法,并结合终端光学组件研制项目的特点,建立了适合于一般大型复杂精密装置研制项目的风险管理体系,其中主要包括风险识别、风险评估、风险应对、风险监控四大模块。首先,在风险识别中以WBS-RBS识别模型为基础,建立了基于产品结构维、工作流程维、风险类型维的三维风险识别方法,从而能够相对全面有效地识别研制中的重要风险,降低风险遗漏的可能性。其次,风险评估则从风险因素和作业活动两种不同的角度出发来进行,在风险因素的评估方面结合风险度分析(风险矩阵)、AHP以及模糊综合评价三者为一个有机的整体,运用风险矩阵确定单个风险因素的风险大小、通过AHP法给出各个风险因素的权重,最后运用模糊综合评价法给出项目整体的风险大小。在作业活动的风险评估方面,建立了考虑风险因素的作业工期三点估算模型,并建立了蒙特卡罗模拟+PERT网络技术的改进模型来评估项目的进度和成本风险,计算了项目的完工概率,并通过计算ACP、ACI等指数来找出对项目目标影响最大的关键作业活动。在风险应对中针对不同风险等级的风险因素建立起不同的应对模型,并给出了应急储备金的计算方法。最后在风险监控中,以挣值管理技术为基础建立起风险的预警模型,监控项目的成本和进度变化。整个风险管理系统基于P6平台而实现,风险评估算法则通过EXCEL结合MATLAB语言编程实现。将该系统运用于终端光学组件研制中实证检验,发现上述模型达到了较好的评估效果,实现了对终端光学组件的风险管理。