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高含H2S天然气的不断开采使得离心压缩机叶片材料FV(520)B的耐硫化性能得到不断重视。研究该材料的硫化腐蚀机理有助于预测叶片的使用寿命,对于研发耐硫化性能更好的合金亦有着较好的理论和实践参考作用。本文通过对不同硫化阶段的硫化膜进行分析,明确了各元素对硫化膜的影响和硫化膜的生长机理。利用XPS技术分析了膜中元素的价态分布,进而推知了硫化物的缺陷类型,利用XRD.EDS.SEM等分析了各亚层硫化膜的组织结构和成分,进一步明确了硫化膜的形成机理和演化规律。运用热喷涂技术和等离子堆焊技术对含硫化膜试样的修复进行了初步探讨。实验结果表明：硫化时间为12h时形成厚度为600nm的硫化膜,主要成分为FeS2.Fe7S8.Ni(1-x)S,当溅射深度达到350nm时出现微量Cr2S3,且随深度增加Cr2S3浓度明显升高,XPS数据显示FeS2.Fe7S8.N.(1-x)S中的Fe3+、Ni3+离子含量分别为35.78%和36.53%、32.08%,根据电中性原则晶格中有约18%的阳离子空位,明确了硫化膜为阳离子不断向外迁移形成的机制。硫化时间为120h时形成了三层结构硫化膜,外层为最外层为(Fe0.5Ni0.5)0.96S、 Fe(1-x)S、Ni(1-x)S,中间层为Fe(1-x)S,内层主要成分为Cr2S3主并伴有少量Fe(1-x)S。其形成机理如下,初始阶段硫化膜由生成速率较快的Fe、Ni硫化物构成,并最终相互反应生成(Fe0.5Ni0.5)0.96S,且由于基体中含Ni较低,Ni的迁移速率随着膜厚增长而下降,而Fe离子的不断迁移形成了Fe(1-x)S的单相次外层。基体中Cr离子不断向外迁移并与Fe、Ni硫化物形成缺陷含量低的Cr2S3并缓慢于内层中生长成膜,此时基体Fe、Ni离子受Cr2S3硫化膜的抑制,其扩散速率进一步下降。利用热喷涂技术和等离子堆焊技术对含硫化膜试样进行修复,结果表明前者产生的涂覆层与基体结合较差,仅当硫化膜较薄时才有部分结合,等离子堆焊技术修复效果较好,但在熔覆区和结合区仍存在硫化物夹杂和空洞。