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该文系统地研究了KTN/P-Si(100)薄膜的PLD(脉冲激光沉积)制备技术,根据实验详细地讨论了各工艺因素对薄膜结构和性能的影响,得到了最佳工艺参数.测试和分析了薄膜的物理性能,并对脉冲准分子激光沉积KTN薄膜的动力学过程进行了研究.
脉冲激光沉积高取向KTN薄膜及其相关特性研究
【摘 要】
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该文系统地研究了KTN/P-Si(100)薄膜的PLD(脉冲激光沉积)制备技术,根据实验详细地讨论了各工艺因素对薄膜结构和性能的影响,得到了最佳工艺参数.测试和分析了薄膜的物理性能,
【机 构】
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华中科技大学
【出 处】
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华中理工大学 华中科技大学
【发表日期】
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1998年期
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