CIGS薄膜和CdS薄膜的制备和光学带隙

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【摘要】

：

采用脉冲激光沉积(PLD)法在玻璃衬底上,通过调节真空室气压和热处理温度制备铜铟镓硒(CIGS)薄膜吸收层和硫化镉(CdS)薄膜缓冲层。采用X射线衍射仪(XRD)表征了薄膜的晶体结构,采用紫外—可见分光光度计分析了薄膜的光吸收特性。通过优化CIGS薄膜和CdS薄膜的制备工艺,找到了较佳的CIGS薄膜吸收层和CdS薄膜缓冲层制备工艺条件。实验发现,利用PLD制备CIGS薄膜并经过热处理可获得结晶较好

【作者】

：

韩磊

【机构】

：

内蒙古大学

【发表日期】

：

2012年01期

【关键词】

：

PLD CIGS薄膜 CdS薄膜光学带隙热处理

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