脉冲调制射频磁控溅射电源的研制

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磁控溅射技术已成为一种有效的薄膜沉积方法,它在固体微电子、光学薄膜和材料表面改性等领域已广范应用。应用磁控溅射法在柔性有机物材料上镀ITO等功能膜层,由于基底材料不能耐温高而很难获得高性能的功能膜层。针对这种情况,通过分析磁控溅射等离子体制备功能薄膜的机理,本论文提出将等离子体参数的电子温度(强度量)与电子浓度(广延量)解耦的方法,这样既满足微观上反应能量(活性)的要求,又满足宏观温度低的要求。为实现解耦,研制了脉冲调制射频电源,它可提供高脉冲功率、低气体温度的条件,从而解决磁控溅射低温条件下成膜的问题。所研制的样机的设计指标为:输出电压是13.56MHz的正弦波,输出功率0-120W连续可调,脉冲调制信号频率0.1kHz-50kHz可调,信号占空比10-90%可调,电源转换效率大于50%。本论文采用低供电电压的高频大功率场效应管设计射频电源。根据磁控溅射对电源的指标要求,给出电源总体设计方案。电源主要分为两个模块:射频电源模块和脉冲调制模块。射频电源模块由石英晶振电路和三级功率放大电路构成,详细讨论了各级功率放大电路的拓扑设计以及功率管的选择要求。重点讨论了输出级电路—乙类推挽功率放大电路的设计,叙述了功率放大级的功率合成原理。脉冲调制电路分为脉冲信号产生控制电路、隔离驱动电路和温度保护电路的设计。根据调制电路对脉冲信号占空比的要求,隔离驱动电路选择高速型光耦隔离驱动电路;针对射频电源在工作时易发热的特点,设计了温度保护电路以提高电源安全工作的可靠性。论文还详细讨论了电源调试过程中遇到的问题和解决方案。并测量电源的各指标和电压波形,达到了设计目标;通过用于磁控溅射实验,所设计的脉冲调制射频电源在功能上达到了预期效果。
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