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介质薄膜材料在光学、电子学等领域有着广泛的应用,Ta_2O_5薄膜材料更是其中一个热点。Ta_2O_5广泛应用于各种光学薄膜,如光学平板显示、光纤通信、分析仪器用滤光片等。本文对Ta_2O_5单层介质膜光学特性以及由TiO_2/SiO_2组成的多层膜的表面缺陷作了较深入的研究。采用正交实验法,得到了Ta_2O_5光学薄膜的最佳工艺参数。若要在近紫外区获得透射率高的Ta_2O_5薄膜,最佳工艺参数为基片温度250℃、沉积速率5(?)/s、离子源氧气流量为14sccm:而在近红外区为基片不加烘烤、沉积速