多晶硅还原工艺设计要点分析

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多晶硅作为现代信息产业和当前太阳能电池板的重要原料。目前国外普遍采用改良西门子法生产工艺,其中多晶硅生产中的还原工艺成为改良西门子法的关键工艺,其工艺条件、设备选择、控制方案等设计过程决定了多晶硅还原工艺的先进性,并直接关系到多晶硅生产的成本和能耗。本文对改良西门子法多晶硅还原工艺进行了分析,明确了还原工艺各工序生产操作单元的工艺设计要点,确定了各工序的最优工艺条件,各工序的控制方案以及各工序的关键设备的分析和设计。同时对晶硅还原系统的能量利用情况进行了深入的分析,对能量综合利用系统进行了计算和设计以上工艺分析和设计过程,为多晶硅生产企业和多晶硅工程设计提供参考。
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