CdS薄膜及CIS涂覆层的性能研究

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在常规能源短缺和环境污染越发严重的21世纪,寻找重复利用的清洁能源已成了迫在眉睫的任务。太阳能是一种清洁、廉价的可再生能源,其中,铜铟硒(CIS)系太阳能电池是一种直接带隙半导体材料,具有制造成本低、稳定性高、对建筑一体化的安装角度不太敏感等优点,正是这些优点使得CIS系薄膜太阳电池成为目前研究的热点。本文采用化学水浴法制备CIS薄膜太阳电池的缓冲层CdS薄膜并对薄膜进行扫描电镜(SEM)的表面形貌和截面像的观察,能谱仪(EDS)分析成分组成、X射线衍射仪(XRD)分析微观结构;并用分光光度计(光率)检测获得半导体带隙的信息。研究表明:当醋酸镉浓度为(0.004~0.006)mol/L、氨水浓度为(0.3~0.5)mol/L、镉离子与硫离子浓度比为1:5时,CdS薄膜的表面质量和性能最佳。获得薄膜的厚度为40~190nm。退火可使薄膜的结晶质量得到明显的加强,且退火温度为300℃时,薄膜均匀、致密,结晶质量提高,颗粒尺寸从69nm长大到123nm左右。实验还将CI(A)S粉末与导电油墨按照一定的比例混合,然后利用丝网印刷方法将其涂覆到玻璃衬底和Mo底上。测得涂层的膜厚为40~75nm,随着溶质比例的增加,膜层厚度也随之增大。物相分析表明,退火后薄膜的晶粒尺寸从11.5nm增大到14nm,但是过高的温度会导致部分In的缺失。对于使用同一溶剂的膜层,随着粉体比例的增加,膜层的层间电阻和表面电阻都有增大的趋势。最后将CdS薄膜沉积到涂覆膜层上,并检测其光电流,发现了在氙灯的照射下,双层膜有微弱的光电流。但是在太阳光的照射下,电流强度还不如氙灯照射的结果。
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