读写经验对不同符号形式数字空间表征的影响

被引量 : 0次 | 上传用户:ullige000
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
对人类数字能力的研究一直是心理学研究中的热点问题。在以往的研究中,人们已经发现许多数字加工中特有的效应,数字反应联合编码效应(the effect of spatial numerical association of response codes)和反应编码语言学显著性效应(the effect of linguistic markedness of response codes)就是其中非常重要的两种效应,可以通过这两种效应来研究数字的空间表征。1993年,Dehaene等在一个实验中要求被试按键对数的奇偶性加以区分,结果发现不论是奇数还是偶数,较小的数字总是左手反应比右手快,而较大的数字则相反,他将这种数字大小与两侧手反应速度之间的关系命名为空间数字反应编码联合效应(the effect of spatial numerical association of response codes),简称SNARC效应。反应编码语言学显著性效应(the effect of linguistic markedness of response codes)是指反应编码的语言学显著性效应,表现为对奇数左手反应比右手反应快,而对偶数则右手反应比左手反应快,简称MARC效应。自Dehaene等发现SNARC效应以及心理数字线以来,研究者们对数字空间表征展开了一系列的研究,这些研究取得了丰硕的成果,但也发掘了一系列新的问题,如读写经验如何影响SNARC效应和心理数字线?不同符号形式数字空间表征的性质是否相同?SNRAC效应与MARC效应同是数字空间表征的结果,它们之间的关系是怎么样的呢?MARC是否受读写经验的影响?因此,本研究以阿拉伯数字、汉字数字和英文数字为实验材料,采用奇偶判断的实验范式对这些问题进行探讨。我们设计了两个实验来探讨不同符号形式数字的空间表征性质,读写经验如何影响数字空间表征。实验一要求被试按“A”、“L”键对数字进行奇偶判断,以探讨不同符号形式数字在水平方向上的空间表征性质,读写经验对水平方向上数字空间表征的影响;实验二将键盘垂直放置,使“A”、“L”变成下键和上键,要求被试按上下键对数字进行奇偶判断,以分析垂直方向上不同符号形式数字的空间表征性质,读写经验对垂直方向上数字空间表征的影响。通过研究论证,本研究获得如下的结论:阿拉伯数字、汉字数字以及英文数字这三种不同符号形式数字均存在数量的空间表征和数字性质的空间表征,其数量的空间表征受到了读写经验的影响,其数字性质的空间表征不受读写经验的影响;被试对英文数字的加工虽不同于其对阿拉伯数字和汉字数字的加工,但被试对其进行空间表征类似于汉字数字和阿拉伯数字;SNARC效应和MARC效应反映的是数字空间表征的不同方面,这两种效应是相互独立的,SNARC效应与被试的读写经验联系密切,而MARC效应具有显著的语言学显著性特性。
其他文献
本论文利用FPGA设计用于纳秒泵浦探测系统上的双激光同步控制器。将来自飞秒激光器的20Hz同步信号二分频,产生参考信号用于触发单色仪,同时根据PC机对系统的延时设置,产生用
随着社会的不断发展,科技的不断进步,教育逐渐向素质化发展,中学生体育教学直接影响中学生的身体素质,初中体育教学课程作为整个体育教学系统中极为重要的环节之一,受到人们
山东民间传统服饰元素十分丰富,款式、色彩、面料都极具民间特征和地域特色。山东民间传统服饰元素再设计是日本的'再设计'理念基于传统元素的发展和深入,对于推广和
挡土板桩、灌注桩、地下连续墙等多支撑支护的计算,一般多用手算,较为繁琐、复杂,且费工费时,以下介绍一种简易近似方法———二分之一分割法,较为简便、快速,可满足一般临时
常言说"良好的开端是成功的一半",导入环节实际上是课堂教学很重要的一环。对于教师而言,高质量的课堂导入不但可以降低课堂教学中导学达标的难度,而且还能提高教学的针对性
随着我国教育事业的发展,对于如何提高教育质量的思考越来越多,教师在整个教育事业中担当着最为重要的角色,教师质量与素质直接影响着教学质量的高低,影响着我国教育事业的发
采用固相法在900℃制备合成了Pb1-x Srx(Zn1/3 Nb2/3)0.3 O3-(Zr0.49 Ti0.51)0.7 O3(简写为PZN-PZT+xSrCO3,x=0%,2%,4%,6%,8%)低温压电陶瓷.采用X射线衍射仪、 扫描电子显微
以变压器容量和电动汽车电池限制作为约束条件,以电动汽车用户充放电成本最低和电网负荷方差最小作为目标函数,构建了电动汽车在V2G(车辆到电网)模式下的充放电控制模型,分别
本文介绍了在0.35微米平台的设备上0.18微米产品通孔刻蚀条件的开发和优化。TEL的IEM机台是200mm硅片0.35微米平台。在实际的半导体集成电路生产中被广泛应用到通孔刻蚀,通常
发展过快,一些建筑失去使用功能,建筑空间改造成为需要考虑的问题。改造旧建筑,可节约资源,不仅改善建筑环境,也改善内部设施,使学习环境更加人性化。在整体建筑环境下,应多