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铁电材料很早就已问世。铁电薄膜技术始于20世纪70年代,随着成膜技术的发展,这种功能材料已经广泛地应用于电子技术、激光技术和红外探测技术以及其它工程技术方面。由于薄膜制备技术的限制,在薄膜的表面层内,会存在杂质、缺陷、表面内应力等因素,使得薄膜在垂直表面方向上表现为一个不均匀系统,造成自发极化的不均匀分布,这种表面层被称之为非理想表面层。它的存在使薄膜的铁电性不同于三维体材料,使薄膜更具有实用价值。目前实际应用中的铁电薄膜有多种结构,但主要结构形式是夹持在两个电极之间的,电极