【摘 要】
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射频磁控反应溅射法制膜性能优良,膜结构致密,可以达到较高的纯度,并且成膜温度低.作者用此法在普通钢、不锈钢、硅片等不同衬底上沉积AlN薄膜,并多次改变各种参数,以研究各
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射频磁控反应溅射法制膜性能优良,膜结构致密,可以达到较高的纯度,并且成膜温度低.作者用此法在普通钢、不锈钢、硅片等不同衬底上沉积AlN薄膜,并多次改变各种参数,以研究各参数对薄膜沉积的影响.同时,进行了多方面的测试,包括沉积速率、红外吸收谱、击穿场强以及X射线衍射等等.得出了用此法镀AlN薄膜的一些规律.测试结果表明,在衬底上确实出现了高纯度的AlN薄膜,并且其性质与成块AlN很接近,具有很多优越的性能.
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