钆(Gd)在室温具有优良的磁热效应,同时具有良好的韧性和易加工性,是磁制冷机不可缺少的室温磁致冷材料,但作为磁致冷材料的工质钆(Gd)由于其性能活泼,在磁制冷机中很容易被冷却液腐蚀,严重影响了磁致冷样机的使用寿命。 本文利用直流磁控溅射方法,在Gd试样上分别沉积四种靶材成分的薄膜。靶材分别为不锈钢(1Cr18Ni9Ti)、高纯Ti、纯Cu和纯Al。运用扫描电镜(SEM)、扫描探针显微镜(SPM)、能谱仪(EDX)、X射线光电子能谱(XPS)、台阶仪等表面分析技术对镀层的微观形貌和组织、镀层与基体的界面形貌、镀层的表面成分及各组分的深度分布、薄膜厚度等进行定性分析检测。并对溅射工艺参数与薄膜质量、薄膜与基体附着性能的关系进行了研究。探索直流磁控溅射法制备薄膜的最佳工艺参数。 实验结果表明:不锈钢薄膜是由原子堆积成的岛状分布生长,生长期薄膜表面粗糙不平,晶粒呈细纤维状。溅射的功率密度对几种靶材的薄膜沉积速率影响都很大;1Cr18Ni9Ti,Ti和Al镀层表面膜层致密无针孔,组织较均匀,Al镀层表面质量最好,而Cu镀层与另外三种镀层相比,薄膜表面粗糙且有较多孔隙;Cu与Gd基底结合较差,界面有裂缝出现,其它三种薄膜界面结合性能较好。这主要是由于不同的“薄膜—衬底”材料的组合对附着力有着重要的影