提拉法生长双折射晶体钒酸钇(YVO4)及其缺陷研究

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由于双折射晶体钒酸钇在光通讯领域具有重要应用价值,我国作为其生产大国,钒酸钇晶体对我们具有重要的经济效益。所以为了能得到更多的高质量的钒酸钇晶体,我们通过此文研究了钒酸钇晶体的粉末合成和晶体生长,并检测了生长出的晶体质量。合成出了具有长效性的钒酸钇粉末,增加了粉末的制备次数,相应地提高了钒酸钇晶体的产量。本文首先简要概述了几种主要双折射晶体的性质,并对比了它们的特性。认为目前钒酸钇晶体在现有的双折射晶体中仍然是重要的光学元件原料。由于晶体生长过程的复杂性,我们研究了晶体生长的机理并分析了制备过程的各个步骤。并且分析了晶体缺陷检测的原理。通过合理的配料、控制溶液PH值、设置温场、调节温度、拉速等操作过程,制备出在绿光532nm激光器照射无明显散射的钒酸钇晶体。通过对钒酸钇晶体进行化学腐蚀和热腐蚀,计算出了在晶面露头处位错密度,建立了位错露头形状与晶体结构的联系。利用同步辐射白光形貌术分析了晶体内部的主要缺陷为包裹体、位错、位错簇、晶界、亚晶界以及应力区等。
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