石墨相氮化碳（g-C₃N₄）作为一种新型的可见光催化剂,具有较窄带宽、可利用的太阳光波长范围宽、无二次污染、易于制备、结构稳定等优异性能。但g-C₃N₄的比表面积小、光生载流子复合率高等缺陷使得g-C₃N₄的光催化效率不高。本研究针对以上缺陷,采用SiO₂复合、K掺杂两种方法对g-C₃N₄进行改性以提高其光催化活性,并考察SiO₂复合和K掺杂对提高g-C₃N₄光催化活性的协同效应。（1）以三聚氰胺和纳米为SiO₂原料、采用气相沉积法合成纳米尺度的复合物SiO₂/g-C₃N₄。通过调控三聚氰胺和纳米二氧化硅的比例来得到光催化活性最优的SiO₂/g-C₃N₄复合光催化剂,并对催化剂进行了表征;以罗丹明B和盐酸四环素作目标污染物评价了g-C₃N₄/SiO₂的光催化活性。结果表明,合成的复合物SiO₂/g-C₃N₄为直径约40nm的纳米颗粒,g-C₃N₄包覆在纳米SiO₂的外面,呈核壳结构。与纯g-C₃N₄相比,SiO₂/g-C₃N₄的比表面积（97.32 m²/g）提高了5.88倍;光生电子和空穴的复合概率大大降低,对染料RhB和盐酸四环素显示出高催化活性,60min内可以催化降解95.6%的RhB和60.3%的盐酸四环素,降解过程中起作用的活性物种主要是超氧自由基,其次是空穴,羟基自由基作用最小。SiO₂/g-C₃N₄具有良好的稳定性,循环使用4次后,光催化活性没有明显降低。（2）以氯化钾作钾源、三聚氰胺作前驱体、二氧化硅作硅源,采用高温热聚合法合成K掺杂g-C₃N₄/SiO₂（记为SiO₂/K-CN）;对K掺杂g-C₃N₄/SiO₂进行了表征,并以抗生素盐酸四环素作目标污染物测试了K掺杂g-C₃N₄/SiO₂在可见光下的光催化活性及稳定性。结果表明,当氯化钾和三聚氰胺混合物与二氧化硅的质量比为10:1时制备的催化剂活性最高。K-g-C₃N₄/SiO₂催化剂的比表面积为28.16 m²/g。K掺杂和SiO₂复合,均能降低光生电子和空穴的复合概率,K掺杂和SiO₂复合的协同作用使K-g-C₃N₄/SiO₂复合物具有高催化活性,120min内可以催化降解68.57%的四环素。催化四环素降解过程中,起作用的活性物种主要是超氧自由基,其次是空穴,羟基自由基作用最小。K-g-C₃N₄/SiO₂复合物且具有良好的稳定性。