【摘 要】
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在等离子体的工业应用中,为了实现等离子体刻蚀中高选择性和低损伤的软等离子体的产生,及等离子体材料制备中与合成的材料和性能密切相关的反应粒子的优化选择,迫切需要实现
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在等离子体的工业应用中,为了实现等离子体刻蚀中高选择性和低损伤的软等离子体的产生,及等离子体材料制备中与合成的材料和性能密切相关的反应粒子的优化选择,迫切需要实现对等离子体中的电子温度的有效控制.该论文主要针对几种常用的低温等离子体应用装置——ECR微波等离子体装置,EACVD合成金刚石装置,waveguide-surfatron表面波微波等离子体装置,根据其不同特点,分别选用了加入栅网和参入惰性气体的方法成功实现了对等离子体中的电子温度的有效控制.并使用静电探针,质谱,可见光发射光谱等对其中等离子体参数和反应粒子的随电子温度的变化进行了研究,提出了通过调节电子温度来选择反应粒子的可能途径.
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