三氧化二砷对K562细胞增殖与凋亡及VEGF表达的影响

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目的研究三氧化二砷(As203)对K562细胞增殖及凋亡的作用及对血管内皮生长因子(VEGF)表达影响。方法将K562细胞与不同浓度As203(0μmol/l, 0.5μmol/l,2.0μmol/l,5.0μmol/l)共同孵育,于24、48、72 h,在倒置显微镜下,用Wright’s染色法、AnnexinV-FITC/PI染色荧光显微镜下观察K562细胞形态,MTT法检测K562细胞存活率,免疫组化法观察VEGF蛋白表达,AnnexinV-FITC检测凋亡细胞,同时用酶联免疫吸附法(ELISA)检测K562细胞上清液中VEGF的浓度。结果①As2O3<2μmol/l时,对K562细胞增殖抑制和诱导凋亡的作用与空白对照组比较,无明显影响(P>0.05);2.0-5.0μmol/l As2O3可显著抑制K562细胞增殖(P<0.05),随着As203作用时间的延长(24-72 h时段),对K562细胞增殖抑制和诱导凋亡的作用加强,且As203在0.5-5.0μmol/l存在梯度浓度。②As2O3<2μmol/l时对VEGF浓度无明显影响(P>0.05);2μmol/l-5.0μmol/l As2O3可明显下调VEGF表达(P<0.05),随着As203作用时间的延长(24-72 h时段)抑制VEGF的作用增强,且As203在0.5-5.0μmol/l存在梯度浓度。结论As203可抑制K562细胞增殖,并具诱导细胞凋亡作用,表现为时间和剂量依赖性,并可下调VEGF的表达。
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