光掩膜版是光刻工艺过程的基本工具，是生产集成电路和平板显示器(LCD、PDP、VFD等)的关键器件，其质量对现代集成电路的发展有着至关重要的作用。当今世界，微电子工业飞速发展，半导体器件和集成电路的制造技术发展迅速，一些先进国家不断加强光掩膜版缺陷修补技术尤其是铬掩膜版微透明缺陷的激光修补技术的研究，光掩膜缺陷修补系统和产品得到不断发展。因此，基于国内光掩膜版缺陷修补技术和产品严重匮乏的严峻形式，研究、开发铬掩膜缺陷修补尤其是透明缺陷的激光修补技术，是提高国内光掩膜版生产技术和质量的迫切需要，同时对我国先进大规模集成电路制造业持续、快速地向前发展具有重要战略意义！　　本文从铬掩膜版透明缺陷微修补这一实际应用出发，介绍了一种激光透射制备薄膜的新方法，并且采用微米级和纳米级的无毒环保且成本较低的铬粉作为实验材料，利用波长为355nm的紫外激光对铬粉进行作用，从而确定了纳米级铬粉在一定激光参数下在玻璃基板上可以淀积制备薄膜。　　本文首先介绍了光掩膜版缺陷的种类及其相应的去除、修补方法，着重介绍了目前光掩膜版透明缺陷的修补方法，并分析了这些方法存在的不足。针对这些不足，提出了利用紫外激光透过玻璃基板对铬粉作用进行薄膜制备来修补光掩膜版透明缺陷的新方法。基于这种新的光掩膜版透明缺陷修补技术，设计了相应的实验系统装置;通过实验的方法，对影响激光透射制备薄膜过程中沉积铬膜性能的各工艺参数进行了分析和讨论，并对实验结果进行了形貌观察、附着力测试、粗糙度测量、成分分析及透过率测定;并进一步对激光透射制备薄膜的机理及形成过程进行了深入的分析和探讨;最后在前期实验的基础上设计了铬掩膜版透明缺陷微修补系统装置对铬掩膜版微透明缺陷进行了修补实践。　　修补实践结果表明，利用激光对纳米铬粉作用进行透射制备薄膜的方法非常适合铬掩膜版透明缺陷的微修补，修补后沉积得到的薄膜附着力及透过率都达到预期目标要求。