【摘 要】
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随着光学薄膜技术的不断发展,光学薄膜器件的应用日益广泛,光学薄膜的研究已被提到了极其重要的地位。为了制备出大功率激光器中激光偏振膜,本课题从镀膜材料特性、膜系设计
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随着光学薄膜技术的不断发展,光学薄膜器件的应用日益广泛,光学薄膜的研究已被提到了极其重要的地位。为了制备出大功率激光器中激光偏振膜,本课题从镀膜材料特性、膜系设计、沉积工艺等方面对这一问题展开了深入的研究。本文从薄膜光学基本理论和膜系设计理论方面阐述了抗激光损伤薄膜的原理,简要介绍了影响光学薄膜稳定性的各种因素,选用HfO2、SiO2作为镀膜材料,试验在Integrity-36全自动真空镀膜机上完成,利用电子束和离子辅助进行沉积镀膜,制备出致密度好、漂移量小、散射少、吸收小的激光偏振膜。在给出测试结果曲线的同时,分析了产生误差的原因。
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