本文主要研究了低功率He-Ne激光对芦荟细胞矿化合成SiO₂纳米材料的影响，选用植物组织培养的方法来产生芦荟的同源苗系，所用激光的波长为632.8nm、输出功率30mW。 激光辐照后测定芦荟叶片细胞中过氧化物酶及其同工酶和纤维素酶的活性的变化，在0～10min的范围内，酶的活性随着照射时间的延长而增强；超过10min，酶的活性反而减弱。另外，同工酶的组成出现了一些变化，显示出一些遗传特性改变的迹象。通过TEM、EDX和IR的结果分析，芦荟细胞中SiO₂纳米材料沉积形式和数量由于光照而发生变化，照射时间小于10min，SiO₂沉积成针状，与对照组相同；30min沉积成柱状；60min时形成无定型材料。这与激光辐照改变酶活性，改变模板基因具有相关性。本研究为激光控制矿化合成任意孔径的SiO₂纳米材料的研究提供了一定的前期研究数据，具有重要的学术意义和参考价值。