RIP法AIN薄膜的制备及分析

来源 :中国石油大学(北京) | 被引量 : 0次 | 上传用户:shilibin2001
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采用新的A1N制备方法——反应离子镀(RIP)制备氮化铝薄膜。 将真空镀膜机改造成可以进行反应离子镀的多用沉积炉。 在真空条件下将金属铝加热汽化成蒸气,同时在金属铝与玻璃基片之间形成一个氮气放电的等离子区,使铝蒸气与氮离子反应形成氮化铝沉积在玻璃基片上。 用正交化实验的方法找出最佳工艺,工艺参数为:真空度1.2×10<-2>托,蒸发电压225V,轰击电压70V。 用原子力显微镜(AFM)分析薄膜表面形貌、薄膜厚度、表面粗糙度,从而比较不同工艺条件下所得薄膜的表面性能,薄膜厚度约为12.15μm,表面粗糙度为10.99nm;在样品镀膜前后称重,测量体积,计算出薄膜的密度为3.29g/cm<3>;采用X射线衍射(XRD)来分析薄膜组织结构,结果表明薄膜为非晶结构;利用近红外吸收和透射光谱计算薄膜的折射率;用拉曼光谱分析AIN薄膜,证实了AIN的生成;测得薄膜平均纳米硬度为7.90GPa,平均体弹性模量为84.91GPa。
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