反应离子镀相关论文
叙述了离子束辅助镀膜的特点。对冷阴极和热阴极两种离子源作了比较。论述了冷阴极离子源及其在真空镀膜中的应用。
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介绍了CVD和PVD的发展历史、性能特点及其在工、模具上的应用。用CVD和PVD技术可以在钢和硬质合金表面沉积高硬度的陶瓷薄膜,改善......
采用空心热阴极放电(HCD)方法实行了铬和钛的氨化物的反应离子镀,研究表明沉积在基体上的硬度是温度施加于基体的偏压和氮气分压的......
本文的目的是介绍和报导作者利用DMP-450型真空镀膜机、通过改装,进行多种离子镀的研究工作。一、设备的改装DMP-450型镀膜机改装......
美国杂志《激光集锦与光电工艺》1987年第三期发表文章说,通过对有代表性的13家厂商的调查结果表明,光学镀膜设备制造业仍是一个......
研究了平面磁控直流反应溅射法沉积氧化铝薄膜的过程。结果表明氧分压大小对反应溅射过程有决定性作用,当氧分压增大或减小过程中......
利用空心阴极离子镀(HCD) 技术在硅片上镀一层均匀Cr_N 薄膜。用X 射线衍射技术(XRD) 分析了氮气分压对沉积的Cr_N薄膜结构的影响。用椭偏测量术对Cr_N 薄......
本文采用阳极氧化的方法,在敷有ITO或SnO_2透明导电层的玻璃基片上,制备了一种阳极氧化铱电致变色膜(AIROF),并对这种膜的电致变色......
利用某些薄膜着色和消色的电致变色显示(ECD)与液晶显示(LCD)、发光二极管(LED)比较,表现出某些独特的显示性能。ECD 的视角不受......
采用新的A1N制备方法——反应离子镀(RIP)制备氮化铝薄膜。 将真空镀膜机改造成可以进行反应离子镀的多用沉积炉。 在真空条......
TiO2薄膜是一种极具应用前景的过渡金属氧化物光学薄膜,它具有优良的介电特性、光学特性和催化性;在可见光区透射率高,折射率大,已......
利用电子浴辅助阴极电弧源活性反应离子镀法 ,在 Si、Mo和不锈钢等基材上合成 Al N薄膜 ;采用 SEM、XRD及 IR对薄膜的表面形貌、晶......
选用R.I.P.工艺,以Sn、In为蒸发物,以Gs-1型全息干板为基片,在200℃的条件下制备出ITO薄膜,经退火处理表明,退火有助于提高ITO薄膜的可见、近红外光的透射率,但退......
利用电子浴辅助阴极电弧源活性反应离子镀法。在Si、Mo和不锈钢等基材上合成AIN薄膜,采用SEM、XRD及IR对薄膜的表面形貌、晶体结构进行了分析。结果......
PVD CrN改进工具的寿命和性能15年前开发出CVD(化学气相淀积)后,CVD和继之研制的PVD(物理气相淀积)成为改进刀具和模具性能及寿命的两个重要的技术手段.但......
讨论了在采用离子镀获得Al2 O3 与TiO2 混合涂层工艺过程中 ,真空度、基片偏压、电子枪功率等主要工艺参数对涂层性能的影响......
光学薄膜反应离子镀技术是近年来新发展的一种光学薄膜技术。本文介绍了光学薄膜反应离子镀设备的研制,在此设备上成功地制备了TiO2、ZrO2、......
本文对反应离子镀和反应蒸发(电子束蒸发)工艺制备的光学薄膜的牢固度和表面粗糙度进行了检测,并将结果进行对比。......