【摘 要】
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莫来石具有强度高、化学稳定性好、电绝缘性好、中红外透过性优良等特性,广泛应用于结构、电子、光学材料领域.该文以亚微米级γ-AlO和TEOS为原料,利用TEOS的水解制备出莫来
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莫来石具有强度高、化学稳定性好、电绝缘性好、中红外透过性优良等特性,广泛应用于结构、电子、光学材料领域.该文以亚微米级γ-Al<,2>O<,3>和TEOS为原料,利用TEOS的水解制备出莫来石前驱体——复合涂料,对复合涂层粉料制备莫来石瓷的成型工艺及制备参数进行了详细研究,确定了制备莫来石瓷的合适工艺.采用900MPa干压成型,1600℃保温2h常压烧结制备出直径13mm莫来石陶瓷,相对密度为99.24﹪,几乎完全致密;采用500MPa冷等静压成型,1600℃保温2h常压烧结制备出直径28mm的莫来石陶瓷,相对密度为9426﹪;根据XRD衍射图谱,试样均由纯莫来石相组成.该文中制备的莫来石显微结构致密、均匀;力学性能测试中,抗弯强度约为116MPa;电学性能测试中介电常数为6.97,介质损耗为0.0036;红外透过性测试中,中红外光透过率为50﹪左右.
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