镁合金的机械物理性能良好,在航空航天、汽车电子等诸多行业被广泛应用,然而镁合金在服役过程中极易发生腐蚀破坏。针对这一问题,本文旨在将稀土Ce元素引入到微弧氧化层中,借助各种表征手段,探究各参数对稀土复合微弧氧化层表面形貌、元素含量及耐蚀性能的影响,提高基体镁合金的耐蚀性能并分析涂层的耐蚀机制。研究结果表明,化学转化、阴极电沉积及微弧氧化工艺参数均对膜层的形貌、成分及耐蚀性能有显著作用,以上三种稀土工艺微弧氧化后均制备出含Ce陶瓷层。通过各种表征分析可得最适工艺参数为:以阴极电沉积为稀土引入工艺,电流密度为0.2mA/dm²,H₂O₂浓度为0.03mol/L,沉积时间为6或8min,300V下微弧氧化5min,涂层耐蚀性能均有改善。其中,沉积时间为6min时,可持续保护基体达168h,沉积时间为8min时,腐蚀电流可降低2³个数量级,点蚀电位提升到2V以上,耐蚀性能显著提升。硅烷电沉积复合工艺中,不论是电沉积后硅烷浸泡,抑或是将硅烷加入到电解质溶液中,均可提高MAO涂层的耐蚀性。相比于不添加硅烷时同样工艺涂层,将硅烷添加到电解质溶液中可持续保护基体达213h,在原本168h基础上耐久性进一步提升。当微弧氧化工艺参数为400V 5min、450V 5min时,由表面截面形貌、线扫描能谱、XRD和极化曲线分析知,封孔处理8min后涂层综合性能较好,腐蚀电流相较其他膜层下降达2个数量级,点蚀电位也有极大提升,封孔效果最为显著,耐蚀性能改善最为明显。对比分析封孔前后微弧氧化层的形貌、物相成分、官能团、粗糙度和耐蚀性能可知,封孔8min后涂层中铈元素主要存在形式为CeO₂,腐蚀电流可下降两个数量级,点蚀电位极大提升,在NaCl溶液中浸泡可抵抗腐蚀破坏高达360h。