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随着光纤通信和集成光电子学的发展，人们越来越多的关注掺铒光波导放大器的研究。光波导放大器的开发需要光波导薄膜材料的研制。 本文探讨了Er~(3+)-SiOx光波导薄膜制备的离子束增强沉积工艺和Er~(3+)-SiO_2、Er~(3+)-Al_2O_3薄膜制备的电子束蒸发工艺。 对离子束增强沉积工艺制备的薄膜，采用RBS、EDX和XRD进行成分分析和微观结构分析，测定了薄膜在1535nm处的光致荧光，总结了薄膜的特性和性能与制备工艺的关系。