功能薄膜超分辨技术作为下一代高密度光信息存储新技术具有重要的应用前景，掩膜层材料是其发挥超分辨效应的关键。本文设计、制备了锑基铋掺杂掩膜新材料，系统研究了锑基铋掺杂掩膜的组成、结构与光学性质的相关性，获得了锑基铋掺杂掩膜在纳秒、皮秒激光作用下的非线性吸收系数、对光斑的非线性调制特性和在常温及加热条件下的透过率、反射率、折射率、消光系数随温度的变化规律。　　分别以GeSbTe和AgInSbTe薄膜作为记录层，在记录激光的工作波长为405nm的条件下，对锑基铋掺杂掩膜的超分辨静态记录性能进行了研究。结果表明:对于上述两种记录层，锑基铋掺杂掩膜的超分辨效应分别达到49％和69％，显示了锑基铋掺杂掩膜的良好超分辨记录性能。　　采用锑基铋掺杂掩膜制备了含有尺寸为390nm预刻信息点的只读式超分辨光盘，在激光波长为780nm、聚焦物镜的数值孔径为0.45、动态分辨率极限为529 nm的装置上成功实现超分辨读出，载噪比达到22 dB，读出功率阈值为0.8mW，读出循环可达2×104次。表明锑基铋掺杂掩膜具有超分辨读出灵敏度高、稳定性好的优点，展示了本文设计、制备的锑基铋掺杂超分辨掩膜在高密度信息存储的重要应用前景。