垂直靶向脉冲激光沉积纳米薄膜

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本文采用垂直靶向脉冲激光沉积(VTPLD)方法制备纳米粒子与薄膜。该方法利用激光穿透一层透明、平整而且对激光没有吸收的基底(本文使用的是玻璃片,它对YAG激光器产生的1064nm激光不吸收)作用在靶材上,使靶材表面熔蚀产生等离子体而沉积在基底上。我们用此方法在室温及空气气氛下于玻璃基底上成功地制备出ZnO纳米薄膜,用扫描电子显微镜(SEM)和X-射线衍射(XRD)仪对ZnO纳米薄膜的表面形貌和结构进行了表征,用荧光光谱仪对薄膜的光致发光性能进行了测量。结果表明,当激光功率为13W时,沉积出的粒子大小
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近十年以来,激烈的市场竞争对产品开发的时间和更新换代速度提出了越来越高的要求,从而出现了许多新的产品设计制造技术,其中在产品设计制造领域中广泛采用集成逆向工程(Reverse Engineering, RE)技术来缩短产品开发时间。在集成逆向工程系统过程中,要考虑到很多因素,包括逆向工程中的数据测量、数据处理、曲面重构,CAD中的实体重构,快速成型(Rapid Prototyping, RP)制造
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