近年来随着电子信息行业的不断发展,电子显示行业对高端屏显材料提出愈来愈高的性能要求。电子基板玻璃因具有良好的化学稳定性及力学性能,尤其在抗压、抗摔和抗刮擦表现突出,现已成为屏显行业发展的重要原材料之一。但其在被广泛应用的同时,也存在一些不可避免的问题,未经特殊加工处理的电子基板玻璃会发生光的透射、折射、反射从而产生的强烈眩光,对人的视觉神经系统造成严重伤害,这是严重的光污染问题。本论文采用化学蚀刻法对电子基板玻璃进行蒙砂处理,研制出具有低粗糙度和高光泽度、透光率的超精细蒙砂玻璃,从源头上解决光污染问题,并对其应用性能进行初步研究。本论文以追求蒙砂玻璃表面达到超精细蒙砂标准为研究目标,以电子基板显示玻璃为研究对象,在了解蒙砂反应机理的基础之上,通过对传统玻璃蒙砂配方进行改进,探索并研制出适合超精细蒙砂玻璃蒙砂液的组分,通过单因素实验和正交试验优化蒙砂液各组分的配比,采用控制变量法对超精细玻璃蒙砂的工艺参数进行分析研究,确定最适合实验室进行的工艺条件;通过金相显微镜、SEM和AFM等方法对超精细蒙砂玻璃的表面形貌进行了测定与分析,并利用能谱仪、粗糙度仪、光泽度仪和透光率和雾度仪对其应用效果进行评估。本文的研究成果表述如下:(1)在对传统玻璃蒙砂配方进行改进的基础之上,以玻璃整体蒙砂效果为评价指标,通过探索与设计确定玻璃超精细蒙砂液的组分为:NaF、KF、CaF2、(NH4)2SO4、K2SO4、(NaPO3)6。利用单因素实验研究了蒙砂液中各组分对玻璃蒙砂反应的影响,结合正交试验对玻璃超精细蒙砂液中各组分的配比进行科学的优化,以蒙砂后玻璃表面粗糙度为主要参考指标,蒙砂速率为辅助验证手段,确定了玻璃超精细蒙砂液的优化配比为(质量比/g):NaF:KF:CaF2:(NH4)2SO4:K2SO4:(NaPO3)6:H2O=45:7:0.8:0.8:0.6:0.6:280。(2)采用最优蒙砂液配比对玻璃进行蒙砂处理,以蒙砂后玻璃表面粗糙度为评判标准,研究外界主要因素对蒙砂效果的影响,选择出最佳的实验室蒙砂工艺条件为:蒙砂时间3min,蒙砂温度24℃,蒙砂液pH=2.5。(3)通过利用金相显微镜、扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)对蒙砂玻璃表面进行测试分析,将在不同条件下制备的表面粗糙度有明显差异的蒙砂玻璃进行对比研究,根据测定结果判断是否达到超精细蒙砂的标准。测试结果显示:当不采用最佳实验室蒙砂工艺条件对玻璃进行蒙砂处理,其表面粗糙度较大,氟硅酸盐粒子形貌各异,出现球面状与尖晶石状,尺寸大小具有明显差距,分布不均匀,目测时蒙砂玻璃表面出现明暗差别;当改用最佳实验室蒙砂工艺条件对玻璃进行蒙砂处理后,其表面粗糙度迅速降低,氟硅酸盐超微晶粒子呈现凸透镜状形貌,目测时蒙砂玻璃表面光滑平整,达到超精细蒙砂标准。(4)对蒙砂前后玻璃表面组成、粗糙度、光泽度、透光率及雾度进行测定,对玻璃蒙砂后应用性能进行基本评价。结果表明:蒙砂前后玻璃表面元素种类与含量几乎未发生变化,仅引入0.03%的氟元素,说明蒙砂处理不会对其优良的应用性能产生影响;实验所制备超精细蒙砂玻璃的表面粗糙度为0.09μm左右,光泽度为75Gs左右,透光率为85%左右,雾度为5%左右,满足显示玻璃的基本参数要求,蒙砂后玻璃表面形成一层超微晶氟硅酸盐粒子,具有防眩光减反射能力。