射频磁控反应溅射法制备HfO<,2>薄膜的研究

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金刚石具有高红外透过率、低吸收系数、抗热冲击性好、耐磨擦等一系列优异的性能,是用于长波红外波段(8~12μm)理想的窗口和头罩材料。然而金刚石在750℃以上时很容易发生氧化,导致透过率急剧下降。在金刚石表面镀制抗氧化增透涂层可以满足其在高速、高温条件下应用。氧化铪(HfO_2)具有优良的物理、化学性能,抗高温氧化能力强,可用作金刚石抗氧化保护涂层。在国外,HfO_2用作金刚石抗氧化涂层的研究已经展开,并取得进展;在国内,有关HfO_2抗氧化保护涂层的研究还未见报道。本文主要研究射频磁控溅射法制备Hf
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