两种碳基薄膜材料的CVD生长及其性质研究

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类金刚石薄膜是一种在很多性质上接近金刚石的非晶材料,特别是具有在红外甚至部分可见光区透明的特点,所以它可以用来作为光学玻璃上的保护和消反射涂层.为了实现这个应用,我们利用热丝化学气相沉积法研究了类金刚石薄膜在熔融石英衬底上的沉积过程及其光学性质.SiCN薄膜也是一种碳基材料,在力学、光学、场发射等方面表现出优良性质,使得它在平板显示、太阳能电池和高硬度薄膜材料等方面具有很好的应用前景.我们首次使用HFCVD系统在不加偏压的情况下成功的在Si(100)衬底上制备出了SiCN薄膜并对其性质结构和生长机理进行了研究和分析.
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