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本文采用直流磁控溅射方法,以Ar和N_2为工作气体、以石墨为溅射靶材,在玻璃基底上制备了类金刚石薄膜和掺氮类金刚石薄膜。采用原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)、拉曼光谱仪(Raman)、傅立叶红外光谱仪(FTIR)、X射线光电子能谱(XPS)等手段对薄膜的表面形貌、成分及结构进行表征和分析。利用紫外-可见光光谱仪(UV-VIS)研究了掺氮后薄膜的透过率、吸收系数及光学带隙发生的变化;采用绝缘电阻测试仪和西林电桥分析了掺氮对类金刚石的绝缘电阻与介电常数的影响。研究结果表明,采用直