高精度定位平台标定技术是对高精度平台的定位结果进行测量和分析.高精度定位平台是MEMS精密作业装备中的关键部分,主要实现装配过程中的纳米级精度和分辨率的精微调整.随着MEMS技术的发展,显微镜下的手工装配已不能满足MEMS批量化和产品化的要求.因此MEMS精密作业装备是MEMS研究和开发的重要基础.所以高精度定位平台对于微电子工业发展也有着非常重要的作用.通常对于如此高精度的定位平台,都要有一定精度的计量设备予以标定,对于这种标定技术的研究成为了更加关键的问题.高精度定位平台的标定技术主要涉及微位移测量技术和平台标定技术这两个方面.本文的研究也是从这两个方面展开的,主要包括以下三个部分:1、概述了高精度位移测量和定位技术的国际国内发展情况,介绍了多种微位移测量和定位方法,并对它们各自的优缺点进行了总结和比较.在此基础上,对光学测量方法中的激光干涉仪技术进行了论述,对目前世界上较先进的激光干涉仪性能进行了分析比较.2、阐述了激光干涉仪的微位移测量原理,并比较了双频激光干涉仪和单频激光干涉仪的优缺点.对于激光干涉仪在测量过程中将出现的各种误差进行了分析研究.在以上各种工作的基础上,为本课题选定了微位移测量仪器为东京精密生产的单频激光干涉仪测量系统L-LM-20B.3、以单频激光干涉仪L-LM-20B为中心,建立了标定测量系统.阐明了系统设计原理.对系统的各种误差提出了补偿方法,确定了误差的大小.提出了系统的标定工作重点,并对标定系统本身的标定方法进行了分析.最后在这些工作的基础上,搭建了标定测量系统的初步实验平台,介绍了实验的初步情况.