在各种光学和光电系统中，减反射薄膜的广泛应用使得光电元器件的品质有了很大的提高。SiO2作为一种低折射率的透明材料，其优良的光学特性和稳定的化学特性使其在减反射薄膜的研究中有着重要的地位。而纳米柱状SiO2薄膜又具有密度低、折射率可调、介电常数低、热稳定性高及易于制备等特点，可应用于光学器件、传感器、集成电路和太阳能电池等领域，纳米SiO2减反射薄膜的制备已成为现今国内外材料学界和物理学界研究的热点。　　 论文通过对常规单层、双层和多层减反射薄膜研究理论的分析，引入基于严格耦合波分析技术的计算机模拟方法，建立纳米柱状SiO2减反射薄膜模型。通过调节相应参数，模拟膜厚（柱高）一定条件下和不同膜厚（柱高）条件下的反射率。对模拟所得结果进行分析比较可知，柱状膜层结构的反射率具有明显的周期性，且对于入射的紫外光减反射效果较弱。　　 采用电子束蒸发的方法在Si基底上制备纳米柱状SiO2减反射薄膜，并用椭偏仪、SEM和分光光度计对样品进行表征。此方法制备的减反射薄膜具有明显的柱状结构，膜层厚度、柱体大小和柱间距随着实验参数的改变有着较大的变化。当灯丝电流、加速极电压和镀膜时间较大时，膜层厚度较大，结构较疏松，反射率较高；当灯丝电流、加速极电压和镀膜时间较小时，膜层厚度较小，结构较致密，反射率较低。总的来说，这种新型结构的减反射薄膜在紫外波段反射率较高，在可见光波段和近红外波段反射率较低，最小反射率达到了1.1％，达到了良好的减反射效果。这些初步的研究结果表明，将纳米柱状SiO2减反射薄膜应用在太阳能电池表面是有可能为电池效率的进一步提高发挥作用的。