磁控溅射法制备CNx薄膜及其性能研究

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【摘要】

：

1989年，Liu和Cohen在局域态密度近似下用赝势法计算从理论上预言了氮化碳的理想结构β-C_3N_4的硬度接近或超过金刚石的硬度。到目前为止，制备的样品多为非晶态，只有少数样品中含有少量的晶相。尽管如此，研究表明，非晶态的CNx仍然具有高弹性、摩擦系数小、抗氧化、耐磨损、防腐蚀等优良性能。因而在国际上受到广泛的重视。本工作利用直流和射频磁控反应溅射法在硬质合金YG8以及Si(100)上沉积了

【作者】

：

唐利强

【机构】

：

江苏大学

【发表日期】

：

2007年01期

【关键词】

：

CNx薄膜硬质合金磁控溅射后处理附着力摩擦磨损

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