CNx薄膜相关论文
用脉冲偏压电弧离子镀通过控制不同的氮流量在(100)单晶Si基片上制备了不同成分的CNx薄膜.用光学显微镜,XPS,XRD,激光Raman和Nanoi......
以脉冲激光沉积(PLD)的CNx材料为靶源,以单晶Si片为衬底,在N2气压为2～11Pa下PLD制备了CNx薄膜。采用X射线光电子能谱(XPS)、拉曼(Ra......
本文研究了采用钛/石墨复合靶和钛/甲烷/氮气真空电弧沉积法,利用Bulat-6多弧离子镀膜机在不同的工艺参数下制备了TiN/CNx复合薄膜......
利用超高真空脉冲直流磁控溅射技术制备了纳米量级厚度的CNx薄膜。利用自行设计的一种简单的探针测定了薄膜合成中的等离子体参数,......
采用射频反应磁控溅射法在硬质合金(YG8)基片上沉积了CNx和CNx/TiN复合薄膜,并对其进行了后处理。XPS分析CNx薄膜的化学结构表明其......
利用微波等离子体增强化学气相沉积技术制备出了CNx 薄膜 ,并利用x射线光电子能谱、x射线衍射、扫描电子显微镜和Raman光谱等测试......
采用射频磁控溅射方法在纯N2气氛中沉积了非晶CNx薄膜样品,并在真空中退火至900 ℃.对高温退火引起的CNx薄膜化学成分、键合结构及......
为了研究非晶CNx薄膜的热稳定性,采用射频磁控溅射方法沉积了非晶CNx薄膜样品,并在真空中退火至900℃,利用FTIR,Raman和XPS谱探讨......
利用电化学方法在室温下成功地沉积了类金刚石(DLC)薄膜和非晶CNx薄膜,并对制备条件进行了讨论.通过扫描电子显微镜、傅里叶变换红......
采用射频反应磁控溅射法在硬质合金衬底上沉积了CNx薄膜和CNx/TiN复合薄膜。薄膜的结构和元素成分用傅里叶变换红外光谱（FTIR）和X射......
以单晶硅片(100)和镀Pt硅片为衬底,用电化学沉积方法在阴极制备出CNx薄膜(x接近于1),薄膜的表面平滑,颗粒均匀.热处理后得到了β-C......
利用直流磁控溅射方法,在高纯石墨衬底上沉积制备碳氮薄膜.借助于SEM对溅射沉积的碳氮薄膜微观形貌进行观察,并对碳氮薄膜的生长过......
为探索简易的碳基薄膜材料制备工艺,采用一种新型碳氮基骨架先驱体——离子液体热解在Q235钢和304不锈钢表面制备了CNx薄膜,利用扫......
采用反应磁控溅射方法在高速钢基体上制备了CNx薄膜,通过改变氮气和氩气的流量比来调整CNx薄膜中的氮含量,并采用XRD、HR-TEM、SEM......
在甲醇-尿素有机溶液中,采用电化学沉积方法,在单晶硅表面沉积得到掺氮的类金刚石薄膜.利用原子力显微镜、拉曼光谱、X射线光电子......
用反应磁控溅射方法在高速钢基体上制备了CNx薄膜材料，用高分辨透射电镜（HRTEM）研究CNx薄膜的微观结构，用X射线光电子能谱仪（XRD）研究薄......
CNx薄膜具有优异的机械与摩擦学性能,很适合作为理想的耐磨保护涂层以及固体润滑剂,具有十分广阔的应用前景.概述了不同学者制备的......
分别将W18Cr4V高速钢和YG8硬质合金作为衬底材料，用直流磁控溅射和射频磁控溅射法制备了CN。薄膜，用划痕法测定了薄膜和衬底材料之间......
采用直流反应磁控溅射方法，在不同偏压条件下，在硬质合金基片（YG8 WC＋8％Co）上沉积了氮化碳薄膜，并通过X光电子能谱仪、涂层附着力自动划痕......
采用离子束溅射法,在单晶Si(100)基片上制备CNx薄膜.研究了基片温度对CNx薄膜性能和结构的影响.结果表明:随着基片温度的提高,薄膜......
以单晶硅片(100)为衬底,尿素-甲醇有机溶液为沉积液,用电化学沉积的方法在阴极制备出CNx薄膜.通过AFM、XPS、Raman光谱和FTIR光谱......
用 1:1.5的三聚氯氰和三聚氰胺的饱和乙腈溶液为沉积液 ,在Si(10 0 )衬底上室温常压下电化学沉积了CNx薄膜。用X射线光电子能谱 (X......
用Si(100)基片做衬底,1∶1.5的三聚氯氰和三聚氰胺的丙酮饱和溶液为沉积液,在室温常压下用电化学的方法沉积了CNx薄膜.X射线衍射(X......
对磁控溅射生长在单晶Si(001)衬底上的CNx薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系进行了研究。CNx薄膜沉积实验在纯N2的环境下进行,......
