本论文主要开展了“远场光学超分辨显微成像综合分析系统”关键技术的攻关,进行了连续激光直写简单微纳复合结构的制备工艺的研究。基于连续激光直写技术制备突破衍射极限限制的纳米孔道的核心思想是利用具有中心暗点的汇聚光斑引发聚合物超低单光子吸收,进而实现了尺寸小于衍射极限的纳米孔道的制备。我们利用自主搭建的532nm连续激光直写系统成功制备出了最小直径可达1/10入射光波长的纳米孔道及其阵列结构。论文首先阐述了“远场光学超分辨显微成像综合分析系统”中圆环光束的调制与两束激光的同轴耦合等关键技术;详细介绍了系统其各个功能模块的构建、集成。其次,讨论了 SU-8光刻胶对不同激光辐射的吸收特性及机理,详细描述了 SU-8光刻胶样品的制备工艺及流程,模拟计算了聚焦光斑的空间光强分布,并阐述了利用连续激光研制突破衍射极限限制的纳米孔道结构的原理。最后,利用SEM表征了纳米孔道的形貌与尺寸,总结了曝光时间、功率以及显影时间等几个重要因素对纳米孔道尺寸和质量的影响。分析讨论了影响纳米孔道尺寸的入射激光光强与时间参数,以及纳米孔道阵列结构的制备效果等。