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双工件台系统是光刻机的核心子系统,包括两个工件台和一个掩模台。处于测量区的工件台要完成硅片的上下片、对准、调平调焦;处于曝光侧的工件台要在掩模台、照明系统与狭缝单元的配合下完成硅片的曝光扫描。工件台要在换台系统下实现两个工件台功能互换。它的控制系统采取上下位机的模式,下位机为基于VME总线工控机,运行VxWorks嵌入式实时操作系统,控制整套系统的执行;上位机运行人机控制界面,向下位机发送控制指令,进行数据通信,本文是围绕下位机系统展开的。首先,对双工件台的执行流程进行了详细的规划,即一个硅片从上片到光刻完毕的全过程,包括在测量区和曝光区的工件台要依次完成的动作,工件台如何定位到换台区,换台方案,工件台、掩模台、照明系统与狭缝单元如何同步实现硅片的曝光扫描等。其次,由于下位机采用嵌入式VxWorks实时操作系统,对它的内核结构进行了分析,提出程序编写方法。它的集成开发环境为Tornado2.2,对它的使用方法进行介绍,并建立了整个系统的开发调试环境。双工件台系统是一个对实时性和可靠性要求较高的系统,结合操作系统的特点,为满足系统要求,提出了相应的程序设计方法。再次,由于上位机要不断与下位机进行数据交互,要建立网络通信。为了增强通信的可靠性,制订了通信协议。将数据封装成帧,使上下位机都能解析并且提取出有用数据。为了能及时接受上位机所有的指令,创建了缓冲队列,将所有命令缓存。为了验证通信的实时性与可靠性,设计了一个实验进行验证。最后,在前面的基础上,进行了整个下位机软件的详细设计。包括软件整体架构、要生成的任务,每个任务的功能,任务之间的通信以及程序执行流程图。通过对单轴实验台的调试,验证了软件设计的正确性。