双工件台相关论文
光刻机的工件台是光刻机运动控制系统中的运动机构,本文的研究对象是工件台的控制,工件台是一个宏微复合结构的控制系统,其双工作......
光刻机是大型集成电路装备中的核心设备，能否独立研制高端光刻机直接体现了一个国家的制造技术水平及能力。双工件台系统是光刻机的......
随着光刻机分辨力的提高,其焦深日益缩小。针对如何充分利用有限的焦深完成Si片的高效曝光,对步进扫描光刻机和双工件台光刻机的调......
为了满足对双工件台系统高精度、高可靠性的实时运动控制，本文研究并使用了VxWorks的高速辅助时钟和基于消息机制的套接字通信，并制......
作为微电子产业的核心设备，光刻机在摩尔定律的推动下经历了接近、接触式光刻机，步进重复投影光刻机，步进扫描投影光刻机的发展历程，现......
集成电路、半导体元器件等超精密器件已经被广泛应用在各行各业中，而光刻机作为研制和生产超精密器件的主流设备也变得尤为重要。双......
半导体产业在经济生产中扮演的角色越来越重要，作为半导体芯片的主要生产设备，光刻机的性能指标直接影响到芯片的线宽及产率。近年来......
为了减少光刻机双工件台换台的时间,保证宏动系统与微动台的可靠连接,设计了一种双工件台快速宏微交接系统。基于柔性杠杆机构设计......
为了提高光刻机的产率，ASML率先推出了Twinscan系列光刻机，Twinscan方案中两个工件台并行工作在测量位和曝光位，提高了生产效率，但是引......
光刻机是半导体元器件制造的常用装备，工件台系统、对准系统和曝光系统是光刻机系统的三大核心组成。由于国外对我国的光刻机在技术......
光刻机系统中，双工件台控制系统作为重要的子系统之一，完成工件台的控制和硅片的曝光过程控制。下位机工控机系统采用VxWorks实时操......
光刻机作为半导体技术发展的关键设备，它既要满足光刻特征线宽不断减小的要求，又要不断提高生产效率，因此对超精密定位平台的运动行程......
光刻机是超大规模集成电路制造这个庞大的半导体系统工程能够稳步快速前进的关键设备，双工件台系统是工件台系统发展演变而得到突破......
双工件台系统是光刻机的核心子系统，包括两个工件台和一个掩模台。处于测量区的工件台要完成硅片的上下片、对准、调平调焦；处于曝光......
双工件台系统是光刻机控制系统的核心,在换台系统下工件台要实现两个工件台互换,换台过程复杂且需要宏动电机的配合,为了保证此过......
为减小双工件台光刻机的换台时间,提出了一种改进5阶S轨迹和时间-冲击最小控制算法.分析了双驱双桥换台策略,曝光位和预对准位的两......
