本文利用射频等离子体增强化学气相沉积制备了类金刚石（DLC）薄膜，选用CH₄和H₂为源气体，硅片为基底。研究了不同生长条件对所合成的DLC薄膜的微结构、表面形态以及对薄膜的力学性能的影响。 通过X-ray Photoelectron Spectroscopy（XPS）分析了薄膜的成分；Raman光谱表征了薄膜的键结构；Atomic Force Microscope（AFM）和光学显微镜研究了薄膜的形貌；通过纳米压痕仪测试了薄膜的硬度和弹性模量。 通过拉曼光谱测试说明沉积的薄膜为非晶态结构，且完全符合DLC膜的典型特征，随着射频源入射频率从50W逐渐增大，D峰与G峰的强度比I_D/IG逐渐增大，G峰峰位向低波数移动，拉曼光谱变得更加对称且变窄，表明sp³碳含量增大，到100W达到最大值，这时又开始下降；AFM表明，薄膜的表面粗糙度很小，平均值为0.157nm，并且伴随着入射功率的不断提高，粗糙度逐渐变小；薄膜的硬度和弹性模量也随着入射功率的变化而受到影响，在100W时达到最大值分别为15.5GPa和112.3GPa。这些结果都表明了DLC薄膜在高入射功率下会石墨化。