微细群孔电解加工技术研究

来源 :西安工业学院 西安工业大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zhongshengxiao
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近年来,随着尖端技术的发展,高新产品越来越趋于集成化、超精密化、外形小型化方向发展,因此其零部件也越来越趋于小型化,这就需要加工精度能达到微米级、亚微米级甚至纳米级.掩膜微细电解加工(Electrochemical Micro-Machining,EMM)是一项新型的微细加工方法,是将光刻技术与电化学加工技术相结合,得到一种高效率、低成本、低污染的加工方法.本文在系统地分析了EMM的加工原理、加工条件的基础上,对光刻过程中的涂胶方法、甩胶速度、旋转时间、曝光参数、显影参数等参数对光刻结果的影响进行了试验研究,结果表明:涂胶方法对胶膜厚度和均匀性有较大的影响;膜厚随甩胶机转速的提高而减小;获得均匀胶膜的最低转速为1270r/min,最小甩胶时间为10s;试验所用光刻胶曝光时间和显影时间的许可范围较大.采用自制试验装置在静止电解液中对光刻胶膜厚度、加工电压、电极间距、电解液浓度和种类等参数对加工结果的影响进行了试验研究.试验表明:在试验过程中,光刻胶膜越薄、电解液浓度越高、加工电压越高侧向腐蚀越严重,小孔的形状精度和尺寸精度越差;电极间距越小,加工结果的表面质量越好.各工艺参数对加工结果质量有着显著的作用,优化参数对EMM有着重要的意义.
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