【摘 要】
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本文研究了导电型聚酰亚胺二次表面镜ITO/Kapton/Al和导电型聚酰亚胺抗原子氧二次表面镜ITO/SiOx/Kapton/Al两种薄膜材料分别在原子氧侵蚀和粉尘撞击作用下质量损失状况、表面形貌和电导率变化以及光学性能的演化规律和损伤机理。原子氧暴露试验结果表明,两种导电性聚酰亚胺二次表面镜薄膜质量损失与原子氧暴露剂量成正比关系,这与原子氧剥蚀效应的质损方程相吻合;原子氧暴露后,导电性二次表面镜
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本文研究了导电型聚酰亚胺二次表面镜ITO/Kapton/Al和导电型聚酰亚胺抗原子氧二次表面镜ITO/SiOx/Kapton/Al两种薄膜材料分别在原子氧侵蚀和粉尘撞击作用下质量损失状况、表面形貌和电导率变化以及光学性能的演化规律和损伤机理。原子氧暴露试验结果表明,两种导电性聚酰亚胺二次表面镜薄膜质量损失与原子氧暴露剂量成正比关系,这与原子氧剥蚀效应的质损方程相吻合;原子氧暴露后,导电性二次表面镜太阳光谱反射系数随着原子氧暴露剂量的增加而降低,并且光谱变化区域由紫外区向红外区移动,这说明经原
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超细铜粉由于具有一系列与常规材料不同的物理、化学特性,被广泛用于粉末冶金、催化、医药等领域,随着社会经济的发展和科学技术的进步,对超细铜粉的数量和质量的要求越来越高。本研究在分析各种超细铜粉的制备方法及工艺、铜粉制备设备的研究基础上,提出了真空蒸发冷凝制备超细铜粉的新思路。通过激光粒度分析仪(LS)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、X射线衍射仪(XRD)、辉光放电质谱仪(GDMS)、差示扫
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