三自由度精密定位工作台设计与制造工艺技术

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纳米压印光刻技术是应用于半导体芯片制造方法中最具有应用前景的技术之一,具有成本低,生产效率高的优点。围绕纳米压印光刻技术的研究得到了蓬勃的发展,其中精密定位工作台定位技术的研究具有重要的理论意义和应用价值。精密定位工作台是在纳米压印光刻设备中关键的核心部件,工作台的定位精度直接影响光刻设备的图形位移精度、套刻精度、对准精度、分辨率等的多项光刻技术参数,精密工作台的质量直接决定了压印的精度和质量。依据改进的Delta机构设计的理论分析模型,在运动学和刚度仿真分析的基础上,设计制造了用于纳米压印光刻系统,具有3个平动自由度的柔性并联精密定位工作台,该机构由电压控制器分别控制三个压电陶瓷驱动器的加载电压,驱动工作台实现精密定位。使用三坐标测量机对精密定位工作台柔性铰链的加工尺寸进行了精度检测。数据表明工作台的三个柔性铰链的椭圆轮廓形状和位置尺寸与理论值有误差,对产生误差的原因进行分析,提出了减小加工误差的加工工艺改进方法。通过工作台输出特性实验,得到样机工作台开环控制时的绝对定位精度和重复定位精度。利用模态分析系统对精密定位工作台进行了动特性分析,与Pro/Mechanica仿真分析数据比较,验证了精密定位工作台的动力学模型,为提高精密定位工作台的动态性能提供依据。
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