基于负性液晶FFS模式残像的研究

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随着液晶显示行业的发展,广视角显示技术逐渐占据中高端显示的市场,市场对显示特性的要求也越来越高:广视角、低功耗、高对比、反应快、高色域等,同时品味的要求也一直很严苛,例如残像、漏光和颜色不均等要求基本上不可见。FFS模式是广视角显示模式的一种,因其具有更好的视角及色彩显示,透过率更高,目前在各家面板厂得到广泛的推广及使用。液晶分为正性液晶与负性液晶,负性液晶具有高透过率、高对比、无液晶划痕、省功耗等优势,使用负性液晶的FFS显示模式性能得到了进一步加强。但使用负性液晶也有其缺点,其残像会更加严重,而残像又是衡量显示器品质的一项重要标准,因此如何能改善负性液晶FFS显示模式的残像变得迫切重要。本文重点将研究如何提高产品残像,针对残像,研究目前残像的实际影响因素,分析如液晶、配向膜制程、静置时间对残像影响,可看出实际生产过程中,残像影响因素较多,残像研究是一项非常复杂的工作。文章中研究挠曲电效应对残像的影响,建立残像模型,通过分析挠曲电效应导致公共电压(Common Voltage,简称Vcom)的变化,来量化离子累积形成的直流电压,并将直流电压对残像的影响转换为判断残像水准的中性密度滤光片(ND Filter),通过与实际判定的残像程度,来进一步证明残像产生的原因,并通过分析残像形成根因,来预估Vcom偏离中心的电压值,作为驱动电压校正的依据,提高校正的准确性及效率。同时也研究目前工艺流程会导致残像加重,原因是先老化后调整Vcom导致离子无法及时恢复,从而无法得到最佳Vcom电压,建议Vcom校正调整到老化试验前,实验证明,可有效改善残像。
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