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黄瓜是主要的设施栽培蔬菜之一,在生产和消费上占据非常重要地位。黄瓜对温度较敏感,因此很容易遭受温度胁迫。我国设施环境简陋,控温能力不强,再加上近年来国际国内对减少碳排放的呼吁持续升温,温度胁迫在今后很长一个时期内会仍然成为威胁我国设施生产的一个重要因素；因此,研究并增强黄瓜自身对温度胁迫的抵抗能力对稳定我国的蔬菜生产和供应具有重要作用。本文以津研四号黄瓜(Cucumis sativus L. cv. Jinyan No.4)为材料,研究了不同温度胁迫对黄瓜幼苗生长及相关生理过程的影响,探讨了H2O2在调控黄瓜光合机构温度适应性中的作用。主要结果如下：1、研究了不同温度对黄瓜幼苗生长的影响。我们分别将黄瓜幼苗放在11/9、18/15、25/20、32/27和39/33℃等五个温度条件下处理,24 h后测定了光合作用及卡尔文循环相关酶活性,同时也利用流式细胞术测定了叶片细胞核DNA含量。结果显示,11/9和18/15℃处理显著抑制了黄瓜的净光合速率(P。),且温度越低,抑制作用越明显。与此相比,低温对Fv/Fm的抑制要弱得多,只有11/9℃处理的抑制作用显著。此外,低温显著降低了Rubisco、PGK、GAPDH的活性,而39/33℃抑制了Rubisco和PGK的活性。为了研究不同温度对叶片细胞分裂的影响,我们利用流式细胞术测定了叶片细胞核DNA含量分布,并研究了细胞分裂和膨大相关基因对不同温度的响应。结果显示,高温或低温显著抑制了细胞分裂,导致4C/2C比值下降。此外,11/9、18/15℃处理抑制了细胞周期和膨大基因的表达；32/27、39/33℃处理却促进了细胞周期基因的表达,且39/33℃处理促进了细胞膨大相关基因Exp的表达。另外,结果也显示GSH/GSSG对温度的响应与上述参数对温度的响应高度一致。2、研究了苗期不同温度处理对不同温度下黄瓜生长和光合作用的影响。我们将子叶刚伸展开的黄瓜放入平均气温分别为17/11、34/23℃的条件(昼／夜)下培养,当幼苗长至三叶一心时分别放入11/9、18/15、25/20、32/27和39/33℃等五个温度条件下处理,10 d后测定光合速率、卡尔文循环相关酶(Rubisco、FBPase、PGK和GAPDH)的活性、H202和MDA的含量,以及各处理植株的生物量。结果显示,在11/9、18/15℃温度条件下下,17/11℃温度下培育黄瓜的H202和MDA含量均低于34/23℃条件下培育的黄瓜；在32/27或39/33℃温度条件下,34/23℃温度下培育黄瓜的H202和MDA含量均低于17/11℃条件下培育的黄瓜。两种温度条件培育的幼苗放入分别进行上述温度处理10 d后,34/23℃培育黄瓜在32/27℃条件下的Rubisco、FBPase、PGK和GAPDH的活性及最大净光合速率(Pmax)高于其他9个处理,生物量累积最多；这说明,当苗期生长温度升高时,黄瓜的最适生长温度由25/20℃变成32/27℃。3、研究了H202在调控黄瓜光合机构温度适应性中的作用。我们将预处理了H202及其清除剂DMTU的黄瓜放入11/9、18/15、25/20、32/27和39/33℃等五个温度条件下处理10 d后,其中,H202处理在五个温度下均有促进黄瓜生长,增强光合作用,提高常温和胁迫温度下Rubisco、FBPase、PGK和GAPDH活性的趋势,DMTU处理结果与H202的作用相反。因此,我们推断,H202或DMTU处理通过影响上述酶的活性而对光合产生作用,并最终促进或抑制黄瓜生长。