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本文利用微波表面波等离子体化学气相沉积(PECVD)技术在载玻片、单晶硅片、PET膜等基底上沉积类金刚石(Diamond-like Carbon，DLC)薄膜。通过傅里叶红外光谱(Fourier transform infrared spectroscope，FTIR)、激光拉曼光谱(Raman)、X射线光电子能谱(X-ray photoelectron spectroscopy，XPS)、原子力显微镜(Atomforce microscope，AFM)分析薄膜的成分、结构和表面形貌;通过测量薄膜的氧气透过率(Oxygen transmission rate，OTR)和水蒸气透过率(Water vapor transmissionRate，WVTR)研究薄膜的阻隔性能;采用发射光谱对等离子体放电特性进行诊断，希望发现其内在联系。主要研究等离子体工艺参数对薄膜沉积及其性能的影响、薄膜均匀性的影响因素以及阻隔影响。此外，还通过微波功率分配技术，研发了微波表面波多腔耦合装置，实现多腔同时放电。论文得到以下结论: 1.使用微波表面波PECVD法在PET材料表面沉积DLC薄膜，可以大大提高其阻隔性，OTR值降低200多倍，WVTR值降低50多倍; 2.沉积薄膜的均匀性可以通过工艺参数的调节、放电天线的设计进行改进。添加金属屏蔽层可以改变薄膜沉积速率及分布;改进石英天线的结构可以改善DLC薄膜在PET内壁沉积的均匀性。采用微波表面波PECVD在PET瓶内壁沉积DLC薄膜可以使PET瓶的阻隔性提高30多倍。 3.DLC薄膜中掺入一定量的硅(Si)、氧(0)元素可以提高薄膜沉积速率，少量Si、0元素的掺杂可以提高薄膜阻隔性。 4.微波功率分配技术可以在大功率表面波等离子体放电中应用，实现一个微波电源的微波能量同时耦合多个腔。