FCVA沉积(Ti,Al)N薄膜的工艺研究

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本论文针对表面涂层技术在高速切削刀具中的应用,对采用磁过滤阴极弧源沉积技术(FCVA)制备(Ti,Al)N薄膜的工艺,系统地进行了研究。在制备的过程中,通过改变氮气的流量、基底偏压、基体温度,用磁过滤阴极弧源沉积技术(FCVA)先后在硅片、高速钢和硬质合金上制备了较高硬度的(Ti,Al)N薄膜,并随之进行了工艺评定。利用AMBIOS XP-2台阶仪测量薄膜的厚度;使用X射线衍射(XRD)对薄膜的结构进行了表征;采用HXD-1000显微硬度仪、CSEM球盘摩擦磨损试验机、洛氏硬度仪等分别研究了薄膜的硬度、摩擦磨损和膜基结合力。试验结果表明,采用Ti,Al原子比为1∶1的靶材在不同的氮气分压下制成的样品薄膜在硬度方面有差异,在氮气分压为1.1×10-1pa左右时硬度达到最高点,随氮气流量的增加呈先增高后降低的趋势。加热环境下制备的薄膜结晶质量好,致密度高,降低了薄膜的摩擦系数,提高了薄膜的抗氧化性能。不同偏压下薄膜的结构和性能也不相同在基体和硬质(Ti,Al)N薄膜之间沉积一层TiAl过渡层,有助于提高膜与基体的结合强度在对多组试验数据进行分析的基础上,得出了制备(Ti,Al)N的较佳方案。
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