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本文首先采用自行设计的超声喷雾热分解设备在普通玻璃衬底上沉积了ZnO薄膜,优化工艺条件后,又分别在玻璃和高阻n-Si(100)衬底上沉积了ZnO:In薄膜,最后采用磁控溅射技术在玻璃衬底上制各了ZnO:In薄膜。借助X射线衍射、场发射扫描电子显微镜、X射线色散能谱、X射线光电子能谱、台阶仪、紫外可见光分光光度计、霍尔效应、四探针等测试手段,研究了沉积温度、衬底材料、溅射功率等对ZnO:In薄膜的晶体结构、形貌、成分及含量、元素价态、成膜速率、光学性能和电学性能的影响。研究结果表明:(1)