随着记录密度的进一步提高，传统的磁存储以及光存储受到了超顺磁效应及光学衍射极限等问题的限制，热辅助磁记录以及垂直磁记录等技术有望实现超高密度磁记录。L10结构的CoPt(FePt)合金具有高达5J/cm3(6.6-10J/cm3)的垂直磁各向异性能，因此很适合作为热辅助磁记录以及超高密度垂直磁记录介质材料。本文采用磁控溅射的方法制备了一系列CoPt纳米复合膜，并结合热辅助磁记录以及超高密度垂直磁记录介质的特性做了一系列的研究，得到了一系列有意义的结果。 (1)采用磁控溅射多层膜先驱体结合真空退火的方法制备了CoPtCu纳米薄膜，并研究了退火温度等制备条件对薄膜结构与性能的影响。研究表明，退火后的CoPtCu纳米薄膜在常温下具有很大的矫顽力Hc(9.1kOe)以及很高的饱和磁化强度Ms(600emu/cm3)，能够很好地满足热辅助磁记录方式对记录介质在常温下的部分要求，但其温度特性以及其它性能还有待进一步研究。 (2)作者采用Ag作为非磁性基质，利用磁控溅射的方法制(CoPt/Ag)n多层膜，退火后得到了垂直取向的CoPt-Ag纳米复合膜，并就薄膜厚度以及组分、Ag含量以及退火工艺对薄膜结构与性能的影响做了细致的研究。为了进一步降低薄膜的相变温度，我在垂直取向CoPt-Ag纳米复合膜的基础上掺杂少量的Cu,在获得垂直取向的基础上有效地降低了薄膜的相变温度。