多层膜结构磁光记录介质的应用是目前磁光记录技术的前沿研究课题之一。研究和分析诸膜层参数在光学耦合和磁耦合中的作用和影响，具有十分重要的意义。该文从理论和实验上，系统地作了以下一些工作。理论方面:在多层膜结构条件，采用导纳特征矩阵分析研究了膜系的光学耦合特性，得到了膜层参数对磁光Kerr转角、反射率等的影响。通过热传导方程的计算机求解，得到了光微区性层的温度场分布，分析研究了各层膜厚度、电介质折射率、记录功率、环境温度等对温度场分布的影响，并估算了记录畴的直径。在此基础上，热磁写入和Kerr信号读出这两个物理过程，利用遗传算法对膜层参数进行了优化匹配。结果表明:在搜索范围、计算速度和结果多样性等方面，比较传统算法具有明的优势。在光市制直接重写部分，分析了实现光调制直接重写的物理机制及其对各功能层的具体要求。实验方面:针对多层耦合膜记录特性测试的需要，在偏光显微镜的基础上，利用磁光Kerr效应，首次研制了反射式磁光记录特性和磁畴观测系统，采用现代数字图象自理的软硬件技术，在很低的对比度和噪声影响的条件下，准确提取了记录畴图象，并进行了几何特征参数的定义的计算。