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<正> 7年前,贝尔实验室的物理学家发明了原子光刻技术,即使用中性原子代替光在表面刻蚀图形,目前已在世界范围内进行研究。尽管在工业上得到应用还需一段时间,但使科学家们感兴趣的是该技术提供了一个可以将现有依赖于光的光刻方法制造的芯片面积缩小10倍的方法。
原子光刻促使芯片面积更小
【摘 要】
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<正> 7年前,贝尔实验室的物理学家发明了原子光刻技术,即使用中性原子代替光在表面刻蚀图形,目前已在世界范围内进行研究。尽管在工业上得到应用还需一段时间,但使科学家们感
【出 处】
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世界电子元器件
【发表日期】
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1997年4期
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