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采用弧辉等离子沉积工艺在镁合金AZ91表面涂覆了TiN薄膜。研究了沉积温度对膜层的厚度、结合力及硬度的影响。用扫描电镜（SEM）、X射线衍射（XRD）和辉光放电光潜（GDS）分析了涂层的成分和微观结构。结果表明，随着控制温度的升高，膜层厚度呈缓慢增加的趋势，但温度过高或过低结合力明显下降，以160～180℃最佳。180℃时的硬度HK0.01最高，达14630MPa。